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采用阴离子聚合工艺制取高性能PS
2005年41期 发行日期:2005-10-26
作者:金秋
采用阴离子聚合工艺制取高性能PS
    美国Inventor公司成功开发出阴离子聚苯乙烯(PS)的生产新工艺,该工艺采用阴离子间歇引发聚合,使生
产的所有聚合物链拥有精确的相同长度,从而使产品具有优异的机械性能。该工艺(美国专利10215406)利用阴
离子聚合释放的绝热爆炸能量,提供给熔融聚合物,由于添加大量含有引发单体的“冷”PS,从而使最终熔融温度
适中。
    阴离子聚合采用正丁基锂,正丁基锂与苯乙烯单体反应,引发聚合。阴离子聚合比常规自由基反应快4~6个
数量级,这样快的速率对于现在的工业生产近乎是无法控制的。但在该SRIC过程中,快速聚合的热量用于将聚合
物绝热加热至加工温度,约为240℃,几乎或完全可避免从产品中脱除挥发性杂质的步骤。
    该工艺己经过实验室验证,多个步骤完成中试,预计于2006年底推向工业化生产。对于11.3万t/a的阴离子
聚合装置,与自由基聚合相比,固定投资费用可降低28%,为3250万美元;直接操作费用可降低0.5%,为0.42美
元/磅。另外,阴离子聚合生产的PS因强度高和可加工性好,可减少材料用量45%。(金秋)
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