ＡｒＦ激发物激光器用光刻胶    据外电报道，日本住友化学工业公司开发成功一种ＡｒＦ（氟化氩）激发物激
    据外电报道，日本住友化学工业公司开发成功一种ＡｒＦ（氟化氩）激发物激光器用光刻胶，并将于今年春季开始寄送船样。    ＡｒＦ激发物激光器有望用于１～４千兆位ＤＲＡＭ板，其线宽为０．１８～
    ＡｒＦ激发物激光器有望用于１～４千兆位ＤＲＡＭ板，其线宽为０．１８～０．１５微米。    住友公司计划今年上半年内在其大阪基地建一座小型生产装置，以向半导体生
    住友公司计划今年上半年内在其大阪基地建一座小型生产装置，以向半导体生产商的研究设备提供这种光刻胶产品。    与此同时，该公司已开始加强其一种电阻器的销售，该电阻器用于使用电子束
    与此同时，该公司已开始加强其一种电阻器的销售，该电阻器用于使用电子束（ＥＢ）直接形成电路。住友公司还将加强ＫｒＦ（氟化氪）激发物激光器及相关激光产品的开发，目前已开始出现对这类产品的需求。    ＥＢ直接形成电路一直存在有通量等问题，但如果将之与ＡｒＦ和ＫｒＦ一起
    ＥＢ直接形成电路一直存在有通量等问题，但如果将之与ＡｒＦ和ＫｒＦ一起经过特殊的严密设计，就可解决上述问题。    住友公司目前正在开发一种用于线宽０．１２微米的产品，已向半导体生产商
    住友公司目前正在开发一种用于线宽０．１２微米的产品，已向半导体生产商寄送船样，并已在一些已工业化ＡＳＩＣ（ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓｐｅｃｉｆｉｃｉｎｔｅｇｒａｔｅｄｃｉｒｃｕｉｔ）及其他一些生产线中使用。（筱晓摘译）