彤程新材光刻胶项目逐步试产

　　11月5日，彤程新材发布公告称，其全资子公司上海彤程电子材料有限公司（以下简称“彤程电子”）在上海化学工业区投资建设的年产1.1万吨半导体、平板显示用光刻胶及2万吨相关配套试剂项目的工程阶段已竣工，目前已逐步进入试生产阶段。

　　根据公告，彤程电子上海化学工业区工厂占地36200平方米，设计能力年产1000吨半导体光刻胶、1万吨显示用光刻胶和2万吨高纯EBR试剂（光刻胶去边剂）。同时，在国际国内半导体厂商及光刻胶厂商战略合作推动下，完成了产线优化及品控升级。

　　其中，在半导体光刻胶方面，彤程电子的年产300/400吨ArF及KrF光刻胶量产生产线，通过采用超高纯PFA（涂层）设备、引入高精度物料流量控制系统、配以自研的高精度高效率光刻过滤系统，可以实现ppt级金属杂质及0.1μm级别的颗粒管控，具备不同配方先进制程光刻胶的生产能力。