近日，中科院山西煤化所煤转化覃勇研究团队，提出了利用扩散限制的原子层沉积（ALD）实现均相催化剂多相化的普适性方法。该法通过在介孔分子筛孔口选择性沉积金属氧化物构筑中空铆钉结构，可应用于各种均相催化剂在孔道内的物理封装，封装后的均相催化剂能保持或提高均相催化剂的活性和手性催化选择性，并具有超高的重复使用性。与传统的共价键固载型多相催化剂相比，以非共价键封装均相催化剂到中孔或介孔分子筛孔道中构筑纳米反应器，可保持手性配合物的自由度和活性。
       ALD是一种先进的薄膜沉积技术，在催化剂结构精准设计方面具有很好的应用前景。研究团队将ALD中前体在多孔材料孔道中的扩散规律应用于封装均相催化剂于介孔材料的孔道中。此方法为均相催化剂多相化提供了一种更简单、更精确的方法。该方法具有很好的普适性，可应用于各种配合物在各种介孔分子筛孔道中的封装，根据配合物分子和分子筛孔径的大小，简单调整工艺实现封装，获得可重复利用的高效催化剂。