罗门哈斯计划在日本设立电子材料研发中心
　　罗门哈斯已经选定日本作为该公司电子材料基础研究的战略基地。罗门哈斯将在其子公司罗门哈斯电子材料公
司（Rohm and Haas Electronic Materials）位于Sasakami的工厂配备研发设施，并将此作为该公司在日本的核心
研发基地，且相关的设备和研究人员将于2010年到位。
　　一直以来，罗门哈斯在日本的研究项目都是短期的，但现在，公司决定在日本进行基础研究，这是长期的研究
项目，至少需要5年时间。其中，电镀领域将成为一个独特的研究领域。
　　罗门哈斯的2010年远景战略业务计划始于2006年，在该战略计划下，罗门哈斯正在以其专利技术作为杠杆，
不断增强3个核心的业务领域：电子材料、涂料和与水、食品、卫生及能源相关的业务。其中，电子材料业务的增
长空间最大，公司计划到2010年将该项业务的销售额扩大到35亿美元。为达此目标，罗门哈斯认为有必要在亚洲
建立1家基础研究机构，开发新技术。因此，罗门哈斯正在将其原来位于美国的研发部门转向亚洲。这可以看作半
导体和印制电路板业务发展的趋势。罗门哈斯位于日本的研究中心将承担长期的基础研究工作，而位于香港的研究
中心负责技术开发工作。此外，罗门哈斯还有意最终在上海建立一家拥有600名研究人员的研发中心。（侯）