SAFCHitech半导体市场即将进入“化学时代”
    SAFC Hitech近日公布了其新的化学品5年发展新路线图的详细内容。这份蓝图对硅半导体基片上的有机金属
化学气相沉积 (MOCVD) 法和原子层沉积 (ALD) 制程工艺进行了勾画。
    SAFC Hitech 的这份新蓝图涉及众多半导体层材料的开发，包括用于逻辑存储设备的高介电常数介电材料、更
多功能的存储器架构、动态随机存储器 (DRAM) 或闸极堆叠、阻隔层、配线以及低介电常数材料。
    SAFC Hitech 总裁 Barry Leese 表示：“随着硅半导体行业从65纳米节点发展到45纳米、32纳米甚至更小的
节点，对硅设备的电物理学性能提出新的要求。我们认为半导体市场即将进入‘化学时代’，在材料上的不断发展是
支持未来技术节点的关键。”
    SAFC Hitech 研发部门负责人 Peter Heys 博士补充说：“一直以来，金属沉积前的介电质层使用的都是氧化硅
和其他‘传统’材料。我们正在对该行业进行的探索就是要尝试化学元素周期表中的更多元素，使用先前没有尝试
过的元素来开发新材料。我们已经在生产过程中使用了氧化铝、氧化铪、硅酸铪、氧化锆和复合稀土氧化物等氧化
物和二元氧化物。这些金属氧化物的介电常数很高，如果该行业仍以符合摩尔定律的速度发展，那么在接下来几年
中，这些金属氧化物将继续得到广泛的开发使用。”
    Heys 博士表示：“在该新发展路线图的实施过程中，SAFC Hitech 将推出用于硅半导体制造的更复杂的高介电
常数氧化物，如基于铪锆的材料层，这种材料层的灵活性更佳，能掺入其它如硅、氮、铝、镧和钇等材料来满足客
户的个性化需求，创造出满足特殊装置设计功能要求的材料层。以外，对稀土和锶化学材料、二元金属和复合金属
氧化物或氧化物的迭代等的研发将能帮助生产出未来技术节点所需的50以上介电常数的材料。”
　  SAFC 是全球10大精细化工企业之一，致力于面向高科技应用产品的高纯度化学物质、面向生物制药的细胞培
养产品和服务、生化生产、以及活性药物成分 (API) 和关键中间体的复杂多步骤的有机合成。
    SSAFC 有四个运营部门——SAFC Pharma、SAFC Supply Solutions、SAFC Biosciences以及 SAFC Hitech，该
公司2006年销售额近5亿美元。
                               （灿）