罗门哈斯建立亚洲技术中心
　　本刊讯  全球半导体行业化学机械研磨 (CMP) 技术的领导者和创新者罗门哈斯电子材料公司 (Rohm and Haas
Electronic Materials)研磨技术(CMP Technologies) 事业部宣布，将在中国台湾新竹开设新的亚洲技术中心(Asia
Technical Center，简称 ATC)。
　　ATC拥有一座能提供300mm CMP 研磨能力的应用实验室以及符合300mm计量的10级和1000级一流洁净室设备，
并为将来的拓展预留了空间。目前 ATC 正与主要客户联手打造先进技术和新一代 CMP 应用，如先进的32nm和22nm
节点超低介电常数铜、浅沟槽隔离技术 (STI)、钨 (W) 研磨和层间绝缘 (ILD)。ATC 还在亚太地区设有研磨技术事
业部的应用工程与技术服务团队，目前正在筹备增加另一所浆材和衬垫产品特性分析实验室。
　　罗门哈斯电子材料公司亚洲研磨技术事业部执行副总裁兼总经理 Mario Stanghellini 表示：“中国台湾地区拥
有强大的逻辑产品和存储产品经营组合，是全球最大的半导体设备生产地。新成立的 ATC 将在该地区为我们带来独
一无二的关键能力，从而使我们能够与这些制造商们携手开发并优化研磨技术耗材套件和工艺，并直接改善他们的
盈利。”（松）